A fotónica de silício é uma das principais tecnologias emergentes que impulsionam a crescente procura de tráfego de internet e taxas de dados mais elevadas. As principais aplicações da fotónica de silício são no mercado dos data centers, impulsionadas por grandes aplicações de dados e cloud, mas espera-se que seja utilizada noutras áreas, incluindo a saúde, LiDAR (Detecção e Alcance por Luz) em aplicações automóveis, computação ótica e computação quântica.

“Antecipando a crescente procura do mercado por fotónica de silício, a Keysight anuncia a primeira solução de teste para o mercado de produção em larga escala de fotónica de silício”, afirmou Shinji Terasawa, vice-presidente e director geral do grupo de Soluções de Teste de Wafer da Keysight. “O nosso sistema de teste NX5402A é a primeira solução a combinar a ciência de medição elétrica e ótica da Keysight com o sistema de alinhamento e posicionamento de fibras integrado pelo software PathWave Semiconductor Test da Keysight.”

O novo sistema de teste de fotónica de silício NX5402A da Keysight oferece os seguintes benefícios principais:

  • Solução completa: Oferece tecnologias de medição comprovadas e capacidades de suporte direto, incluindo capacidades integradas de teste ótico e elétrico, além do sistema de alinhamento e posicionamento de fibras desenvolvido pela Keysight com base na ciência de medição da empresa.
  • Totalmente automatizado: Elimina a operação manual graças ao software PathWave Semiconductor Test, compatível com o software SPECS , facilitando o teste de fotónica de silício num único passo.
  • Pronto para produção em larga escala: Características como software de automação de fábrica, bloqueio de segurança e disponibilidade de sala limpa auxiliam a sua utilização no fabrico, proporcionando uma elevada taxa de medição baseada numa arquitetura de teste ótico e elétrico multicanal, bem como um alinhamento de fibras otimizado.

Desempenho comprovado do sistema: Mantém uma elevada precisão, repetibilidade e replicabilidade do laboratório à produção, oferecendo uma calibração avançada ao nível do wafer, bem como uma monitorização fiável do desempenho com diagnósticos automatizados integrados do sistema.