“O Phemet® satisfaz a crescente procura de controlo de processos melhorado no fabrico em larga escala, especialmente à medida que a indústria continua a inovar com dispositivos mais pequenos, mais complexos e de maior desempenho, envolvendo dimensões de recursos em nanoescala e novas abordagens de integração”, afirma José Manuel Ramos, CEO da Wooptix.
“A capacidade do sistema Phemet® de captar mais de 16 milhões de pontos de dados com resolução subnanométrica e velocidade ultrarrápida numa única imagem estabelece um novo padrão de metrologia para o setor. O sistema é particularmente útil para medições online de alto desempenho em colagem híbrida, arquiteturas de fornecimento de energia pelo lado traseiro e na próxima geração de memórias 3D NAND e de alta largura de banda.”
O sistema de metrologia automatizado Phemet® mede toda a pastilha de silício numa única imagem, captando a sua forma e nanotopografia, bem como a curvatura, deformação e outros parâmetros personalizados. É uma ferramenta versátil capaz de medir pastilhas em branco, normalizadas ou coladas. O Phemet® apresenta baixo ruído e resistência à vibração, melhorando a precisão da medição. Os dados brutos do sistema fornecem aos engenheiros de fábrica e de desempenho uma rastreabilidade completa para identificar a origem de erros de sobreposição e outros defeitos, melhorando assim o rendimento.
A Wooptix aplica a sua tecnologia proprietária Wave Front Phase Image (WFPI) ao Phemet®, que capta a distribuição de luz do wafer para construir um mapa de fases utilizando um algoritmo proprietário. A WFPI adquire rapidamente mapas de fase de frente de onda com resolução subnanométrica e informações detalhadas da amostra, incluindo a topografia e a deformação completas do wafer. Oferece uma resolução ultra-elevada de 4700 x 4700 pixels.
Risto Puhakka, Diretor Executivo de Análise de Mercado de Semicondutores da TechInsights, comentou: “As medições precisas de formato e planicidade de wafers estão a tornar-se cada vez mais vitais à medida que o fabrico de semicondutores avança para geometrias mais pequenas, integração 3D e tolerâncias de processo mais rigorosas. O setor procura constantemente abordagens novas, inovadoras e de alto desempenho para a metrologia, como métodos que combinam visão de campo completo, alta resolução e velocidade, para melhorar o custo do controlo de processos, minimizar os erros de sobreposição e aumentar a produtividade e o desempenho dos dispositivos.”
Segundo Ramos, “Trabalhámos com clientes líderes em memória e lógica para testar o Phemet®, e os resultados foram excelentes. Esperamos enviar o sistema Phemet® em breve para vários clientes importantes para produção em grande escala”.
