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- Categoria: Discreto
MOSFET de potência IR PQFN2x2 ultracompacto para aplicações de baixo consumo de energia
A International
Rectifier expande a sua oferta de encapsulamentos com o lançamento de um encapsulamento PQFN de 2 mm x 2 mm que incorpora a mais avançada tecnologia de silício IR para MOSFETs HEXFET®numa solução ultracompacta, eficiente e de alta densidade, destinada a uma ampla variedade de aplicações de baixo consumo de energia, incluindo telemóveis avançados (smartphones), tablets, gravadores de vídeo, câmaras digitais, computadores portáteis, servidores e equipamentos de rede de comunicação.
Os novos dispositivos PQFN2x2, caracterizados pela sua área de apenas 4 mm²2Estão disponíveis para tensões de 20V, 25V e 30V, com controlo de porta padrão ou nível lógico, e utilizam as tecnologias de silício de baixa tensão mais avançadas da IR para o canal N e canal P, de forma a oferecer baixa resistência de condução (RDS(on)) e alta densidade de potência num encapsulamento PQFN3.3x3.3 ou PQFN5x6.
A família PQFN2x2 inclui dispositivos de canal P otimizados para utilização no lado de alta tensão dos interruptores seccionadores, onde oferecem uma solução de controlo mais simples. Estes dispositivos, caracterizados por um perfil baixo inferior a 1 mm, são compatíveis com as técnicas de montagem superficial existentes, têm dimensões standard e estão em conformidade com a diretiva RoHS.
A família PQFN2x2 inclui dispositivos de canal P otimizados para utilização no lado de alta tensão dos interruptores seccionadores, onde oferecem uma solução de controlo mais simples. Estes dispositivos, caracterizados por um perfil baixo inferior a 1 mm, são compatíveis com as técnicas de montagem superficial existentes, têm dimensões standard e estão em conformidade com a diretiva RoHS.
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