Com uma tensão máxima dreno-fonte (VDSS) de 150 V e uma corrente de dreno (ID) de 49 A (TPH1100CQ5) e 32 A (TPH1400CQ5), os novos dispositivos apresentam uma resistência máxima dreno-fonte (RDS(ON)) de 11 mΩ e 14 mΩ, respetivamente.
Os novos componentes oferecem características de recuperação inversa melhoradas, que são cruciais em aplicações de retificação síncrona. No caso do TPH1400CQ5, a carga de recuperação inversa (Qrr) é reduzida em aproximadamente 73%, para 27 nC (típ.), e o tempo de recuperação inversa (Qrr) de 36 ns (típ.) é aproximadamente 45% mais rápido em comparação com o TPH1400CQH da Toshiba, que oferece a mesma tensão e RDS(ON). Utilizado em aplicações de retificação síncrona, o TPH1400CQ5 reduz a perda de potência em fontes de alimentação comutada e contribui para o aumento da eficiência. Se o dispositivo for utilizado num circuito que não opera no modo de recuperação inversa, a perda de potência é equivalente à do TPH1400CQH.
Quando utilizados num circuito que opera em modo de recuperação inversa, os novos produtos reduzem os picos de tensão gerados durante a comutação, ajudando a melhorar as características de EMI dos projetos e reduzindo a necessidade de filtragem externa. Os dispositivos são encapsulados num versátil pacote SOP Advance(N) de montagem superficial, com apenas 4,9 mm x 6,1 mm x 1,0 mm.
Para auxiliar os projetistas, a Toshiba desenvolveu um modelo SPICE G0 para a verificação rápida da função do circuito, bem como modelos SPICE G2 de alta precisão para uma reprodução precisa das características transitórias.
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- Categoria: Outros semicondutores
MOSFET U-MOS XH de canal N de 150 V para fontes de alimentação
A Toshiba Electronics Europe GmbH (“Toshiba”) acrescenta dois novos MOSFET de potência de canal N de 150 V baseados no seu processo U-MOS XH Trench de última geração. Os dispositivos TPH1100CQ5 e TPH1400CQ5 foram concebidos para utilização em fontes de alimentação comutada de alto desempenho, como as utilizadas em centros de dados e estações base de comunicação, bem como noutras aplicações industriais.
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