« Phemet® répond à la demande croissante d'un meilleur contrôle des procédés dans la production de masse, notamment face aux innovations constantes du secteur qui développent des dispositifs plus petits, plus complexes et plus performants, intégrant des dimensions nanométriques et de nouvelles approches d'intégration », déclare José Manuel Ramos, PDG de Wooptix.
« La capacité du système Phemet® à capturer plus de 16 millions de points de données avec une résolution subnanométrique et une vitesse ultrarapide en une seule image établit une nouvelle norme métrologique pour l'industrie. Ce système est particulièrement utile pour les mesures en ligne haute performance dans les domaines du collage hybride, des architectures d'alimentation par l'arrière et de la prochaine génération de mémoires 3D NAND et à large bande passante. »
Le système de métrologie automatisé Phemet® mesure l'intégralité d'une plaquette de silicium en une seule image, capturant sa forme et sa nanotopographie, ainsi que les paramètres de courbure, de gauchissement et autres paramètres personnalisés. Cet outil polyvalent permet de mesurer des plaquettes vierges, structurées ou collées. Phemet® se caractérise par un faible niveau de bruit et une grande résistance aux vibrations, améliorant ainsi la précision des mesures. Les données brutes du système offrent aux ingénieurs de production et de performance une traçabilité complète pour identifier l'origine des erreurs de superposition et autres défauts, optimisant ainsi le rendement.
Wooptix applique sa technologie propriétaire d'imagerie de phase du front d'onde (WFPI) à Phemet®, qui capture la distribution de la lumière sur la plaquette pour construire une carte de phase grâce à un algorithme propriétaire. La technologie WFPI acquiert rapidement des cartes de phase du front d'onde à résolution subnanométrique, fournissant des informations détaillées sur l'échantillon, notamment la topographie complète de la plaquette et ses déformations. Elle offre une résolution ultra-élevée de 4 700 × 4 700 pixels.
Risto Puhakka, directeur général de l'analyse du marché des semi-conducteurs chez TechInsights, a déclaré : « La précision des mesures de forme et de planéité des plaquettes devient cruciale à mesure que la fabrication de semi-conducteurs évolue vers des géométries plus petites, l'intégration 3D et des tolérances de processus plus strictes. L'industrie recherche constamment des approches métrologiques nouvelles, innovantes et performantes, telles que des méthodes combinant vision panoramique, haute résolution et rapidité, afin d'améliorer le coût du contrôle des processus, de minimiser les erreurs de superposition et d'accroître le débit et les performances des dispositifs. »
Selon Ramos, « Nous avons collaboré avec des clients de premier plan dans le domaine de la mémoire et de la logique pour tester Phemet®, et les résultats ont été exceptionnels. Nous prévoyons de livrer prochainement le système Phemet® à plusieurs clients clés pour une production en grande série. »
