Ces travaux s'appuient sur plus d'une décennie de recherche fondamentale sur les dispositifs quantiques à l'Université de Lancaster, et un traitement avancé à l'échelle atomique est actuellement réalisé aux laboratoires centraux de KAUST grâce à la technologie ALE d'Oxford Instruments. Cette combinaison permet un contrôle subnanométrique associé à un traitement minimisant les dommages, une condition essentielle pour les hétérostructures à puits quantiques de haute précision qui constituent la base de l'ULTRARAM.
ULTRARAM est une technologie de mémoire conçue pour allier la vitesse de la mémoire DRAM à la conservation non volatile des données, offrant ainsi un potentiel d'amélioration de l'efficacité énergétique et des performances système. Sa réalisation exige un contrôle précis des interfaces et de l'épaisseur des couches au sein de structures semi-conductrices III-V complexes, ce qui rend les techniques de fabrication à l'échelle atomique idéales.
« La maîtrise à l’échelle atomique de nos structures à puits quantiques est essentielle à l’ULTRARAM », a déclaré James Ashforth-Pook, PDG et cofondateur de Quinas Technology. « Notre collaboration avec les laboratoires centraux de KAUST et l’utilisation de la technologie de gravure de couches atomiques d’Oxford Instruments nous donnent accès à l’un des environnements les plus avancés et les plus fiables au monde pour la R&D de semi-conducteurs à faible dommage. ».
Les laboratoires centraux de KAUST jouissent d'une reconnaissance internationale dans le domaine de la nanofabrication avancée, du traitement par plasma et de la recherche sur les semi-conducteurs composés, et soutiennent à la fois l'excellence académique et le développement des technologies industrielles.
« Les laboratoires centraux de KAUST soutiennent la recherche de pointe sur les semi-conducteurs grâce à des installations de nanofabrication avancées et à des outils de traitement à l'échelle atomique conçus pour le développement de dispositifs à faible dommage», a déclaré le Dr Kenneth Kennedy, directeur du laboratoire central de nanofabrication de KAUST.
« La gravure par couches atomiques permet la fabrication précise et peu destructive de composants de dispositifs nanométriques et est de plus en plus utilisée dans les environnements de recherche et de production de semi-conducteurs de pointe à travers le monde. Nous sommes ravis que Quinas utilise les systèmes ALE d'Oxford Instruments au sein des laboratoires centraux de KAUST pour la fabrication de ses dispositifs ULTRARAM. KAUST est un client de longue date de Plasma Technology et dispose d'une gamme complète de systèmes ALE et de dépôt de couches atomiques (ALD), incluant la toute dernière technologie ALD, le PlasmaPro ASP », a déclaré Harriet van der Vliet, directrice de la R&D des marchés stratégiques chez Oxford Instruments Plasma Technology.
l'engagement croissant de Quinas Technology envers l'écosystème de recherche avancée de l'Arabie saoudite dans le cadre de sa stratégie mondiale de R&D et renforce la position de l'entreprise alors qu'elle poursuit le développement d'ULTRARAM en vue de la démonstration de prototypes et d'une future collaboration avec des partenaires industriels, des fonderies et des investisseurs stratégiques.
