Der technologische Fortschritt bei Industrieanlagen hat sich in schwindelerregendem Tempo vollzogen – und damit auch die Leistungsanforderungen an die notwendigen Komponenten.

Unter diesen Bedingungen muss das neue PhotoMOS® AQV209G-Relais von Panasonic Industry als unbestreitbarer Durchbruch im Bereich der Hochleistungs-Halbleiterschaltungen angesehen werden – insbesondere übertrifft es die Spezifikationen der letzten Generation um eine zehnmal höhere Schaltkapazität.

Durch die Kombination bewährter Technologie mit modernsten Materialien und galvanischer Trennung zwischen Eingangs- und Ausgangsschaltung erreicht das fotogekoppelte Halbleiterrelais eine unübertroffene Ausgangsleistung von 1200 V bei 0,75 A. Es ist für den Dauerbetrieb und mit unbegrenzter Lebensdauer sowohl für Wechsel- als auch für Gleichstromlasten geeignet.
Trotz dieser Leistungssteigerung ist das neueste Mitglied der PhotoMOS®-Familie dank seines bemerkenswert niedrigen Einschaltwiderstands von typischerweise 1 Ohm weiterhin in einem kleinen, standardmäßigen 6-Pin-DIP-Gehäuse erhältlich.

Dank zukunftssicherer Technologie ist der AQV209G ein wirklich interessanter Ersatz für viele herkömmliche Reed-Relais-Anwendungen oder als Ersatz für quecksilberhaltige Typen.

Durch die Gewährleistung von leisem, schnellem und prellfreiem Schalten ist es eine empfehlenswerte Wahl für eine breite Palette moderner industrieller Anwendungen, Test- und Messgeräte, Steuerungen oder E/A-Module.

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